1不同基质对狭叶薰衣草盆栽光合指标的影响

 

如表4-1所示，7号基质处理的狭叶薰衣草净光合速率最大，为12.89μmolCO2·m2·s-1，且显著性大于CK对照。1、8、2、3、9、10号基质处理的狭叶薰衣草净光合速率略大于园土CK对照，且与CK对照无显著性差异。4、5号基质处理的狭叶薰衣草净光合速率略小于CK对照，且与CK对照无显著性差异。6号基质处理的狭叶薰衣草净光合速率最小，为5.59μmolCO2·m2·s-1，且显著性小于CK对照。

 

7号基质处理的狭叶薰衣草蒸腾速率最大，且显著性大于CK对照。1、8、2、9、10号基质处理的狭叶薰衣草蒸腾速率略大于CK对照，且与CK对照无显著性差异。3、4、5号基质处理的狭叶薰衣草净光合速率略小于CK对照，且与CK对照无显著性差异。6号基质处理的狭叶薰衣草净光合速率最小，显著性小于CK对照。

 

8、7、1、10、2、3号基质处理的狭叶薰衣草胞间CO2浓度略大于CK对照，且与CK对照无显著性差异。9、5、4、6号基质处理的狭叶薰衣草胞间CO2浓度略小于CK对照，且与CK对照无显著性差异。

 

7号基质处理的狭叶薰衣草气孔导度最大，显著性大于CK对照。1、8、2、3、9、10号基质处理的狭叶薰衣草气孔导度略大于园土CK对照，且与CK对照无显著性差异。4、5号基质处理的狭叶薰衣草气孔导度略小于CK对照，且与CK对照无显著性差异。6号基质处理的狭叶薰衣草气孔导度最小，显著性小于CK对照。

 

7号基质处理的狭叶薰衣草瞬时水分利用率最大，为2.77mmol·mol-1，且显著性大于CK对照。4、6、5、3、1号基质处理的狭叶薰衣草瞬时水分利用率略大于CK对照，且与CK对照无显著性差异。2、8、9、10号基质处理的狭叶薰衣草瞬时水分利用率略小于CK对照，且与CK对照无显著差异，其中10号基质处理最小，为2.34mmol·mol-1。

 

综合来看，7号基质处理的狭叶薰衣草净光合速率、蒸腾速率、气孔导度、瞬时水分利用率均最大，证明其植株生长最好。1、8号基质处理的各项指标次之，6号基质处理的综合表现最差。这可能是由于各基质处理的综合肥力决定的，7、1、8号基质处理的综合肥力最高，植株生长较好。

 

6号基质处理的综合肥力最低，植株生长最差。各基质处理的狭叶薰衣草净光合速率、蒸腾速率、气孔导度基本呈正相关，胞间CO2浓度可能由于外界CO2浓度的影响，与其他几项指标的变化趋势相比略有差异，瞬时水分蒸发率变化趋势与其他4项指标无明显规律性。